半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備主要應(yīng)用在半導(dǎo)體清洗行業(yè)，該設(shè)備采用先進(jìn)的反滲透技術(shù)和ED1技術(shù)，*證設(shè)備的質(zhì)量和出水水質(zhì)。該設(shè)備整體采用先進(jìn)的不銹鋼材質(zhì)，抗腐蝕能力強(qiáng)，同時(shí)也不會(huì)出現(xiàn)生銹問(wèn)題，質(zhì)量可靠，受到用戶(hù)的一致好評(píng)。

 

二、半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備工作原理

EDI裝置將離子交換樹(shù)脂充夾在陰／陽(yáng)離子交換膜之間形成EDI單元，EDI工作原理如下圖所示，EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開(kāi)，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰／陽(yáng)電極。在直流電的推動(dòng)下，通過(guò)淡水室水流中的陰陽(yáng)離子分別穿過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜進(jìn)入到濃水室面在淡水室中去除。而通過(guò)濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水，ED1設(shè)備一般以反滲透（RO)純水作為EDI給水．RO純水電導(dǎo)率一般是40-2μ S/cm(25℃).

EDI純水電阻率可以高達(dá)18MQ.cm(25℃),但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18. 2MΩ.cm(25℃)的純水。

 

三、半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備制備工藝

1、預(yù)處理系統(tǒng)反滲透系統(tǒng)一中間水箱粗混合床精混合床純水箱純水泵紫外線(xiàn)殺菌器拋光混床精密過(guò)濾器用水點(diǎn)。（≥18MΩ.C0傳統(tǒng)工藝）

2、預(yù)處理反滲透中間水箱水泵ED1裝置純化水箱一辣水系一紫外線(xiàn)殺菌器一隨光溉床0. 2或0. 5μ=精密過(guò)濾器用水點(diǎn)。（≥18MΩ.CM*新工藝）

3、預(yù)處理一*反滲透加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）中間水箱***反滲透（正電荷反滲膜）純水箱純水泵EDI裝置紫外線(xiàn)殺菌器0. 2或0. 5μm精密過(guò)濾器用水點(diǎn)。（≥17MΩ.00*新工藝）

4、預(yù)處理反滲透中間水箱水泵EDI裝置一純水箱純水泵紫外線(xiàn)殺菌器0. 2或0. 5μ=精密過(guò)濾器用水點(diǎn)。（≥15Ω.00*新工藝）

5、預(yù)處理系統(tǒng)一反涉透系統(tǒng)一中間水箱純水泵一相混合床精混合床紫外線(xiàn)殺菌器一精密過(guò)濾器一用水點(diǎn)。（≥15MΩ.CD傳統(tǒng)工藝）