發(fā)泡溫度：90度/120度/150度

【應(yīng)用】用於各種暫時(shí)性粘貼固定之製程，待完成加工製程或製成半成品後再以加熱的方式去除膠膜
  一、 電子及光電產(chǎn)業(yè)部件製作加工工程:
          1、LCD 或觸控面板玻璃研磨拋光、LED 切割研磨拋光、MLCC 切割、二極體、電感、半導(dǎo)體固
黏 Chip…等晶片之暫時(shí)性固定以利進(jìn)行研磨、切割、固黏 Chip、加熱固定以及保護(hù) Chip
電路或板面避免刮傷
         2、  觸控面板製程
               玻璃與玻璃間之黏著，製程中會(huì)經(jīng)過(guò)兩次烤爐加溫 (封閉 Chamber )，並於兩次烤爐
中間會(huì)經(jīng)過(guò) KOH (鹼性) 及 DIW 噴灑或浸泡。首次烤爐溫度目前設(shè)定 110 ℃ 5min，
次烤爐溫度目前設(shè)定 120 ℃ 4min ，故此膠帶希望可以於首次烤爐後，仍保留相當(dāng)
黏著力，以防止經(jīng)過(guò)液體噴灑或浸泡時(shí)脫落。，並於第二次烘烤後，可輕易剝離。 此
膠體除了熱剝溫度及耐鹼、水性之外，厚度更是考量*大因素。 因設(shè)備需求，膠體
厚度，希望可於 50um 已內(nèi)，厚度均勻性 ± 10%。
  二、 LED 藍(lán)寶石基板薄化研磨製程
          取代研磨拋光上蠟製程
   三、四次元 LED 矽晶片薄化製程
           一般四次元薄化較容易產(chǎn)生破片，主要原因?yàn)樗拇螆A加工過(guò)程較容易產(chǎn)生污染顆粒導(dǎo)致研磨膜破片，在未加工貼膜時(shí)，熱解膠膜因膠能埋住這些顆粒汙染物讓破片率降低
  四、 銅基板石墨烯（Graphene）轉(zhuǎn)印及奈米碳管轉(zhuǎn)印