規(guī)格:
1. 型號:HPD-2400;
2. 電源:三相AC380V(±10%)
3. 功率:1000VA;
4. 電極尺寸:500mm×450mm;
5. 設(shè)備尺寸:720(W)×1360(H)×765(D)mm
6. 設(shè)備重量:180kg
7. 腔體壓力:500~3000Pa
用途:
1. 酶標板、細菌計數(shù)培養(yǎng)皿、細胞培養(yǎng)皿、組織培養(yǎng)皿的親水處理。經(jīng)過等離子體處理后細菌培養(yǎng)皿表面由疏水變?yōu)橛H水,并獲得支持細胞黏附鋪展的能力.并適用于細胞培養(yǎng)。等離子表面處理的效果可以簡單地用滴水來驗證,處理過的樣品表面完全被水潤濕。
2. 生物芯片、人造血管、血管支架的處理
3. 等離子清洗、刻蝕、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理,能夠改善材料的潤濕能力,使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作,增強粘合力、鍵合力,同時去除有機污染物、油污或油脂。